该项目副总设计师胡松介绍，中科院光电所此次通过验收的表面等离子体超分辨光刻装备，打破了传统路线格局，形成一条全新的纳米光学光刻技术路线，具有完全自主知识产权，为超材料/超表面、第三代光学器件、广义芯片等变革性领域的跨越式发展提供了制造工具。
据了解，该光刻机制造的相关器件已在中国航天科技集团公司第八研究院、电子科技大学太赫兹科学技术研究中心、四川大学华西医院、中科院微系统所信息功能材料国家重点实验室等多家科研院所和高校的重大研究任务中取得应用。
光刻机为什么这么重要？
光刻机作为制造芯片的重要工具，采用类似照片冲印的技术，把母版上的精细图形通过曝光转移至硅片上，一般来说，光刻分辨力越高，加工的芯片集成度也就越高。光刻机的技术突破在中国芯片产业发展进程中的重要性不言而喻。
此前，陷入美国禁售芯片旋涡中的中兴通讯，给中国信息技术产业敲响了警钟，也揭开了中国的“芯病”。在“中兴事件”中对核心技术受制于人的困境感悟有多深，今天“超分辨光刻装备研制成功在国人心中的分量便有多重。
“芯病”该怎么治？各方都在“中兴事件”中寻找答案。中兴通讯被美国“禁售”消息发布的第二天，一场围绕中兴和芯片两大关键词而紧急召开的研讨会，在位于北京市中关村科学院南路6号的中国科学院计算技术研究所(简称“中科院计算所”)举行。
